|
| F21 | F22 | F23 | F24 | F25 | F26 | F27 | F28 | F29 |
||||
|
| F211 | F212 |
| F231 | F232 |
| F251 | F252 | F253 |
|
|
|
|
|
1 |
0.2sF21= 0.04sF2= 0.02s |
0.025sF2=0.0125s |
0.1sF23=0.0035s |
0.23sF23=0.00805s |
0.0375sF2=0.01875s | ||||||||
|
2 |
0.2sF21= 0.02s |
0.025sF2=0.0125s |
0.1sF23=0.0035s |
0.23sF23=0.00805s |
0.0375sF2=0.01875s |
0.5sF25= 0.0375s | |||||||
|
3 |
0.2sF21= 0.02s |
0.025sF2=0.0125s |
0.1sF23=0.0035s |
0.23sF23=0.00805s |
0.025sF2=0.0125s |
0.4sF25= 0.03s | |||||||
|
4 |
0.4sF21=0.04s |
0.1sF25= 0.0075s |
0.1sF2= 0.05s |
0.15sF2= 0.075 |
0.1sF2= 0.05s |
0.055sF2=0.0275s |
|||||||
|
| sF21=0.2sF2 | sF22= .075sF2 | sF23=0.07sF2= 0.035s | sF24= 0.1sF2 | sF25=0.15sF2= 0.075s | sF26= 0.15sF2 | sF27= 0.15sF2 | sF28= 0.1sF2 | sF29= 0.055sF2 |
||||
ФОТОРЕЗИСТЫ , органические материалы, чувствительные к оптическому излучению видимой и ультрафиолетовой области. Наиболее широко используются в микроэлектронике при создании искусственных спутников, запоминающих устройств и др. по методу планарной технологии для формирования заданного рельефного рисунка на поверхности полупроводника или диэлектрической основы перед ее легированием.
ЭНГР (Ingres) Жан Огюст Доминик (1780-1867) , французский живопиец и рисовальщик. Блестящий мастер композиции, строгого и тонкого рисунка, правдивых, острохарактерных портретов ("Л. Ф. Бертен", 1832). В картинах выступал как главный представитель академического классицизма ("Апофеоз Гомера", 1827).
КОММЮНИКЕ (франц . communique, от лат. communico - сообщаю), официальное сообщение о переговорах между государствами, о международных договорах и т. д.